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催化学报

催化学报 ›› 2005, Vol. 26 ›› Issue (5): 393-398.

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甘氨酸在SiO2表面的吸附及热缩合反应

孟明1,Lorenzo Stievano 2, Jean-Francois Lambert 2   

  1. 1 天津大学化工学院催化科学与工程系, 天津 300072; 2 法国皮埃尔和玛丽居里大学表面反应性能实验室, 巴黎 75252, 法国
  • 收稿日期:2005-05-25 出版日期:2005-05-25 发布日期:1986-07-30

  • Received:2005-05-25 Online:2005-05-25 Published:1986-07-30

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摘要： 考察了甘氨酸水溶液平衡浓度和pH值对其在SiO2表面吸附行为的影响,采用DTG,XRD和FT-IR等手段对甘氨酸在SiO2表面的吸附量及晶相结构等进行了表征. 结果表明,甘氨酸在SiO2上的吸附不符合Langmuir吸附模型,当甘氨酸水溶液平衡浓度小于0.073 mol/L时,主要为特定位置吸附,此时SiO2对甘氨酸的吸附源于其表面≡Si-O-基团与甘氨酸离子的-NH+3 端的相互作用; 当平衡浓度大于0.073 mol/L时,呈多层吸附,形成α和β两种晶型的甘氨酸. 用TPD-MS对甘氨酸的热缩合行为进行了考察,结合FT-IR结果表明,产物为环状二聚体哌嗪二酮(DKP),没有检测到线式二聚体以及表面硅酯类物种形成. SiO2对表面吸附的甘氨酸分子产生了诱导活化,使其热缩合温度与体相α甘氨酸相比降低了50 ℃左右.

关键词: 甘氨酸, 二氧化硅, 吸附, 热缩合, 二酮哌嗪