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催化学报 ›› 2005, Vol. 26 ›› Issue (10): 884-888.

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经PPh3修饰的Rh/SiO2催化剂的吸附-脱附性能

朱何俊,丁云杰,严丽,李显明,熊建民,潘振栋,江大好,林励吾   

  1. 中国科学院大连化学物理研究所, 辽宁大连 116023
  • 收稿日期:2005-10-25 出版日期:2005-10-25 发布日期:1985-10-26

  • Received:2005-10-25 Online:2005-10-25 Published:1985-10-26

摘要: 应用程序升温技术研究了氢甲酰化反应物CO,H2和C2H4在经PPh3修饰的Rh/SiO2(PPh3-Rh/SiO2)催化剂上的吸附-脱附行为. CO-TPD结果显示, Rh/SiO2催化剂在348, 398和525 K处有3个脱附峰, PPh3-Rh/SiO2催化剂仅在368 K处出现脱附峰,表明催化剂的吸附性能发生了明显变化. 采用原位红外光谱研究了PPh3-Rh/SiO2催化剂上CO的吸附态. 结果表明, 2040 cm-1处吸收峰归属于PPh3修饰的Rh粒子上线式吸附的CO. 这种吸附态既不同于Rh/SiO2多相催化剂表面Rh粒子上的CO吸附态,也不同于相应均相催化剂中的羰基配位态. TPD和FT-IR结果表明,在低压下PPh3-Rh/SiO2催化剂对氢甲酰化反应已具有相当的催化性能.

关键词: 氢甲酰化, 三苯基膦, 铑, 氧化硅, 负载型催化剂, 吸附-脱附