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催化学报

催化学报 ›› 2003, Vol. 24 ›› Issue (3): 203-207.

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NO在Au／Al2O3催化剂上还原反应的TPD-MS研究

齐世学1，邹旭华1，徐秀峰1，安立敦1，李树本2，程谟杰，包信和3   

  1. 1烟台大学应用催化研究所，山东烟台264005；2中国科学院兰州化学物理研究所，甘肃兰州730000；3中国科学院大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室，辽宁大连116023
  • 收稿日期:2003-03-25 出版日期:2003-03-25 发布日期:1997-11-30

  • Received:2003-03-25 Online:2003-03-25 Published:1997-11-30

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摘要： 考察了沉积－沉淀法制备的Au／Al2O3催化剂在O2存在下催化C3H6还原NO的反应，并用程序升温脱附－质谱（TPD－MS）手段研究了吸附于催化剂上的NO或NO－O2的脱附性能．结果表明：在O2存在的条件下，对于C3H6还原NO的反应，1％Au／Al2O3的催化活性最高，可于375℃左右使NO生成N2，转化率达60％．这与催化剂对所吸附NO的脱附性能密切相关，N2O可能是C3H6还原NO反应过程中产生的比较稳定的中间体．

关键词: 金, 氧化铝, 负载型催化剂, 一氧化氮, 丙烯, 吸附, 程序升温脱附, 质谱, 选择性还原